机密食启用前[考试时间:1月30日14:30~17:10]昆明市第一中学2026届高三1月复习诊断化学本试卷分选择题和非选择题两部分。满分100分,考试用时75分钟。可能用到的相对原子质量:H1C12N14016Co59注意事项:1.答题前,考生务必将自己的准考证号、姓名填写在答题卡上。考生要认真核对答题卡上所粘贴的条形码中"准考证号、姓名、考试科目"与考生本人准考证号、姓名是否一致。2.答选择题时,每小题选出答案后,用2B铅笔把答题卡上对应题目的答案标号涂黑。如需改动,用橡皮擦擦干净后,再选涂其他答案标号。答非选择题时,必须使用。.5毫米的黑色墨水签字笔在答题卡上书写,要求字体工整、笔迹清晰。作图题可先用铅笔在答题卡规定的位置绘出,确认后再用。.5毫米的黑色墨水签字笔描清楚。必须在题号所指示的答题区域作答,超出答题区域书写的答案无效,在试题卷、草稿纸上答题无效。3.考试结束后,将本试卷和答题卡一并交回O一、选择题:本大题共14小题,每小题3分,共42分。在每小题给出的四个选项中,只有一项符合题目要求。1.劳动铸就幸福。下列劳动项目对应的化学知识错误的是选项劳动项目A用肥皂洗涤去除油污B工人将模具干燥后再注入熔融钢水C用草木灰水浸泡树皮D加热澳化销和浓磷酸制澳化氢气体2.下列化学用语或图示错误的是H/飞~O个A邻起基苯甲酶分子内氢键示意图:lJ_;'H0B.03分子的结构(虚线表示大τ键):d古乡♂乒川..-乡♂7予乡7江7HC.乙腊(CH3CN)的电子式:H:_ç.:CHN:HD凡丁町模型:作乍化学知识肥皂中的高级脂肪酸饷含有亲水基和亲油基铁与H20高温下会反应使纤维素水解反应'摘增,逸出气体促进反应进行化学·第1页(共8页)3.下列反应方程式错误的是A.侯氏制碱第一步反应:NaCl(饱和)+NH3•H20+CO2=中NaHC03↓+NH4ClB.用Na2S03溶液吸收少量C12:3S0~-+C12十日20=二SO~-+2Cl-+2HS03-C.钢铁发生吸氧腐蚀的正极反应:O2+4e-+2H20=二40H一D.用盐酸处理铜器表面的铜锈:CuO+2H+=Cu2+十H20A4.木炭与浓硝酸可发生反应:C+4日N03(浓)-CO2↑+4N02↑+2H20。设NA为阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是A.14g刊含中子数为8NAB.常温常压下,6.72LCO2含τ键数目为0.6NAC.pH斗的稀硝酸中含H+数目为O.lNAD.1.38gN02与H20完全反应,转移电子数为O.OlNA5.利用下列装置进行实验,正确的是LA.稀释浓硫酸与铜反应后的浊液C.用乙醇萃取腆水中的126.银及其化合物的转化关系如图。下列说法正确的是A.①⑥均为置换反应B.检验醒基的试剂由反应③配制油气falAg(S20占]AgIbfNaCI--‘同_.,.Na2S203\~AAgBr"~7\KB氨变/\KBr叫王/④气'-....[Ag(NH3)2]Cl/@C.N町、S20~一的空间结构均为平面三角形D.常温下,在水中的溶解度:AgN03>AgCl>AgBr化学·第2页(共8页)水B.实验室制取O2D.吸收多余C12{#{QQABBYM0wgAQgIaACT5rEQX4CgkYsJGhJKgsBVAYOA4KQQNABIA}#}7.M是一种合成医药中间体,结构简式如图。下列有关说法错误的是A.核磁共振氢谱显示4组峰B.原子不可能都位于同一平面C.1molM最多能与3molH2加成D.能与Na2C03溶液反应8.棚及其化合物有重要的应用,转化关系如图所示。下列说法错误的是NH3脱氢NaBH川一一~B2H6(g)一一一-.NH3BH3一一一~BN(立方氮化棚)•mHß03A.NaBH4和NH3BH3均有配位键B.H-N-H键角:NH3BH3<NH3C.B2日6和BN(熔点2700OC)的晶体类型不同D.B2H6与H20反应:B2H6+6H20=2H3B03+6H2(g)9.以CaS04为硫源,设计实验制备元水Na2S04的流程如下:过量X溶液稀硫酸CaS04~→由也→→|系列操作←问H…h附W龟硝SωO,.xH户叫叫It力叩h问问问无林训水刺N滤渣(伺CaCO矶创3)滤液下列说法错误的是A.X是Na2C03B.酸化时可将过量的X转化为Na2S04C.系列操作包括蒸发结晶、过滤、洗涤D.加热脱水用到的硅酸盐仪器有增塌、玻璃棒、酒精灯等10.2025年诺贝尔化学奖授予三位在金属有机框架的设计与合成方面作出开创性贡献的化学家。\金属R~O"、-R~γ飞、一~_R飞、→(~。→ZIF一8卡一||斗ZIF-8←-→川←已知:催化过程中,ZIF-8由Zn2+提供空轨道作为活性位点,与反应物的孤电子对结合。下列说法错误的是A.CO2的碳原子的轨道杂化类型反应后变为sp2B.催化过程中有极性键的断裂和形成C.CO2的碳原子与活性位点结合形成中间体IRR、\卢(D.\7与叫反应生成/...
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